Chinas EUV-Lithografie: Realität oder Wunschdenken?

PEKING / MÜNCHEN (IT BOLTWISE) – Die Nachricht, dass China bis 2026 in die Serienproduktion von EUV-Lithografie-Systemen einsteigen könnte, sorgt für Aufsehen in der Halbleiterindustrie. Doch wie realistisch sind diese Pläne tatsächlich?

Die Vorstellung, dass China bis 2026 in der Lage sein könnte, EUV-Lithografie-Systeme in Serie zu produzieren, hat in der Halbleiterbranche für Aufsehen gesorgt. Diese Technologie ist entscheidend für die Herstellung moderner Chips mit extrem feinen Strukturen, die eine Wellenlänge von 13,5 Nanometern erfordern. Bislang ist ASML aus den Niederlanden der einzige Hersteller, der diese Systeme in Serie produziert. Aufgrund von Exporteinschränkungen darf ASML jedoch keine EUV-Systeme an chinesische Unternehmen wie SMIC verkaufen.

Ein Bild einer chinesischen Maschine mit der Aufschrift „EUV“ hat Spekulationen ausgelöst, dass China bald in der Lage sein könnte, Chips mit dieser hochkomplexen Technologie herzustellen. Doch bei genauerer Betrachtung handelt es sich bei dem Gerät um eine Maschine zur Ausrichtung und möglicherweise zum Testen moderner Silizium-Wafer, nicht um ein vollständiges Lithografie-System. Dies erklärt auch, warum das Gerät deutlich kleiner ist als die EUV-Systeme von ASML.

Chinas größter Chipauftragsfertiger SMIC produziert derzeit Chips mit 7-nm-Strukturen, vor allem für Huawei. Ohne Zugang zu EUV-Technologie muss SMIC auf Mehrfachbelichtungen mit tief-ultravioletter Wellenlänge setzen, was die Produktionskosten und die Fehlerquote erhöht. Der 7-nm-Prozess ist nur dank staatlicher Subventionen wirtschaftlich tragbar.

Die Ankündigung, dass China im Sommer 2025 mit der Vorserienproduktion von EUV-Maschinen beginnen will, wird von Experten skeptisch betrachtet. Bisher gibt es keine seriösen Quellen, die bestätigen, dass SMIC oder andere chinesische Firmen bald in der Lage sein werden, Chips mit EUV-Technik herzustellen. Die Falschinformationen über Chinas Fortschritte in der Halbleiterindustrie häufen sich seit 2024, was die Glaubwürdigkeit solcher Ankündigungen weiter infrage stellt.

Ein weiterer Aspekt ist die technische Herausforderung, die mit der Entwicklung von EUV-Lithografie-Systemen verbunden ist. Diese Systeme erfordern eine hochpräzise Technologie, die bisher nur von wenigen Unternehmen weltweit beherrscht wird. Die Entwicklung eigener Systeme wäre für China ein bedeutender technologischer Fortschritt, jedoch ist der Weg dorthin mit erheblichen Hürden verbunden.

Die Zukunft der chinesischen Halbleiterindustrie bleibt ungewiss. Während die Regierung erhebliche Anstrengungen unternimmt, um die technologische Unabhängigkeit zu fördern, bleibt abzuwarten, ob und wann China tatsächlich in der Lage sein wird, mit den führenden Herstellern in Europa und den USA gleichzuziehen. Bis dahin bleibt die internationale Gemeinschaft wachsam und beobachtet die Entwicklungen in China mit großem Interesse.

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